Produktneuheit 06. Mai 2024
300mm optischer Wafer mit Metasurfaces
Forschern des Fraunhofer IOF ist es erstmals gelungen, mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie eine Meta-Oberfläche mit einem Durchmesser von fast 30 Zentimetern herzustellen. Die neue Fertigungstechnologie kann helfen, optische Systeme in Zukunft deutlich dünner zu bauen. Besonders vorteilhaft sind solche großen Metasurfaces für kompakte Optiken, bei denen große Ablenkwinkel auf kleinem Raum benötigt werden.
Fraunhofer IOF
Ansprechpartner
Herr Stefan Riehemann